FZ区熔高阻硅片

FZ区熔高阻硅片

加工、供应各种类型高阻硅片。

1.生长方式:区熔 (FZ)、中子辐照区熔(NTDFZ)等;

2.尺寸:1”，2”，3”，4”，5”，6”，8”，12”和特殊非标直径及异形硅片;

3.表面:单抛、双抛、研磨等;

4.晶向:<100>、<111>、<110>晶向及偏角度和特殊晶向;

5.厚度:超薄25um、50um、100um、200um等，常用厚度:280um-1mm;超厚:1mm、2mm、5mm等;导电类型:非掺杂半绝缘;

6.电阻率:>1Ω.cm，>10002.cm，>3000Ω.cm，>5000Ω.cm，>10000Ω.cm，>20000Ω.cm;

7.用途:红外光学、太赫兹领域;整流器、场效应管、功率集成电路、射频、超高压二极管、传感器等;

8.工艺:可加工氧化、氮化、镀金属膜(银Ag、金Au、铂Pt、铜Cu、钛Ti、镍Ni);

9.供货能力:大量库存现货，种类齐全，当天发货!

10.加工能力:各种规格可加工，为客户量身定制!工期短!

本文关键字： FZ区熔高阻硅片 低阻硅片、热氧化硅片